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IM4000Ⅱ標準離子研磨儀使用低能量Ar離子束，加工無應(yīng)力損傷的樣品截面，為SEM觀察樣品的內(nèi)部多層結(jié)構(gòu)、結(jié)晶狀態(tài)、異物解析、層厚測量等提供有效的樣品前處理方...

WK6500系列精密阻抗分析儀七種機型：20Hz~5MHz，10MHz，15MHz，20MHz，30MHz，50MHz和120MHz，符合客戶不同采購需求

WK6500P高頻LCR表系列適用于生產(chǎn)線上高頻LCRMeter的量測，本機種一共有七種機型，分別20HZ~5MHz，20HZ~10MHz，20HZ~15MHz...

PICOSUN R-200 標準型ALD系統(tǒng)，PICOSUN®R-200標準ALD系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā)，例如IC組件、MEMS器件、顯示器、LE...

設(shè)備特點：脈沖電閃基反應(yīng)器是集閃蒸焦耳熱系統(tǒng)和快速焦耳熱系統(tǒng)為一體的反應(yīng)系統(tǒng)包括兩個電源系統(tǒng)(大功率電容系統(tǒng)和恒壓電源系統(tǒng))和電壓、電流、溫度實時測試系統(tǒng)。

市面上最小的ALD，可放進手套箱，來自美國哈佛的原子層沉積系統(tǒng)兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。

kashiyama NeoDry-15G 真空泵產(chǎn)品特點:·適合研究室等領(lǐng)域·無負荷運行噪音小于45dB/36G：50dB（A）·...

PIPS Ⅱ 精密離子減薄儀用于高質(zhì)量透射電鏡樣品的制備，它可精確定位減薄位置并對工藝參數(shù)進行精確控制

MP系列微納3D打印機采用亞像素微掃描光引擎技術(shù)，以半導(dǎo)體激光器陣列為光源，采用自主知識產(chǎn)權(quán)的掩膜生成器件，可實現(xiàn)μm級別的打印精度和不低于700mm³...

惰性氣體手套箱系統(tǒng)型號：UNIlabMAX/LabstarMax系統(tǒng)集成氣體凈化系統(tǒng)的簡潔設(shè)計

鐵電分析儀型號：TFANALYZER1000/2000E/3000TFANALYZER是一款擴展性的高速型模塊化鐵電壓電分析儀，具備鐵電、壓電、熱釋電材料所有基...

常溫壓電d33測試儀型號：ZJ-3/ZJ-4/ZJ-5/ZJ-6準靜態(tài)d33測量儀是為測量壓電材料的d33常數(shù)而設(shè)計的專用儀器，其d33測量范圍極寬，可達500...

壓電陶瓷高壓極化儀，ET2673D-4全數(shù)顯型壓電陶瓷高壓極化設(shè)備，電壓、時間、溫度均為數(shù)字顯示

實驗室小型水冷機型號：CW-5200TISW/CW-5200TI冷水機，溫控精度達±0.1℃，小體積，大制冷量，可滿足無塵車間或?qū)嶒炇曳忾]環(huán)境的使用要...

通用顯微冷熱臺廣泛用于圖象表征各種熱轉(zhuǎn)變過程，能夠直接用于觀察樣品在加熱或冷卻過程中的形態(tài)變化以及結(jié)晶過程中形狀、結(jié)構(gòu)、顏色以及大小和數(shù)量的變化

CVTD 材料氣相輸運與沉積系統(tǒng)CVTD 材料氣相生長輸運與沉積系統(tǒng)，可以滿足塊體、粉末、薄膜等樣品真空 ( 保 護氣氛下 ) 合成生長制備，廣泛適用于低維材料...

1.2.1真空封管機系統(tǒng)型號：單工位/雙工位/三工位真空封管機+系統(tǒng)主要用于實現(xiàn)樣品的無氧無水真空密封保存或高溫固相合成，整套系統(tǒng)由真空封管機、氫氧機、分子泵機...

凹坑研磨儀預(yù)先切薄以接近電子透明度的快速可靠的機械方法，可顯著減少離子研磨時間和薄度不均現(xiàn)象。

型號：GVC-2000/GVC-2000P/GVC-2000TD磁控離子濺射儀顆粒更小，更適宜于高倍圖像觀測，適配場發(fā)射/高分辨場發(fā)射電鏡；低壓大電流濺射，效率...

GVC-3000熱蒸發(fā)鍍碳儀高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀7英寸TFT觸摸屏，全數(shù)字顯示；全自動控制，一鍵式操作；4根碳繩交替工作，自動檢測通斷；連續(xù)蒸發(fā)、脈沖蒸發(fā)兩種工作...