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應(yīng)用領(lǐng)域	綜合

德國(guó)豪瑪Hellma CaF2晶體材料應(yīng)用于光學(xué)領(lǐng)域

德國(guó)Hellma GmbH & Co. KG是一家成立于1922年的公司，由Karl Mayer創(chuàng)立。Hellma最初以生產(chǎn)簡(jiǎn)單的光學(xué)玻璃比色皿起家，這些產(chǎn)品主要用于旋光、比色和分光光度測(cè)試。隨著科學(xué)行業(yè)的興旺，特別是五十年代，比色測(cè)試成為了定性分析和定量分析的常用方法，Hellma也積極開(kāi)發(fā)和擴(kuò)展其產(chǎn)品系列以滿(mǎn)足新型比色皿的迅速增長(zhǎng)需求。

主要產(chǎn)品：

Hellma比色皿

Hellma晶體材料

Hellma光學(xué)材料

Hellma光學(xué)玻璃

Hellma光學(xué)元件

Hellma晶體材料CaF2

光學(xué)性能：Hellma Materials CaF2因其優(yōu)質(zhì)的光學(xué)質(zhì)量和在紫外（UV）、可見(jiàn)光（VIS）以及紅外（IR）光譜范圍內(nèi)的出色透射率而為人熟知。其透光范圍寬，從0.125微米到10微米，具有高寬帶透射率，從深紫外到紅外（130nm至8μm）。

折射率和色散：CaF2具有較低的折射率（nd = 1.43384）和低光譜色散（vd = 95.23），這使得它在光學(xué)設(shè)計(jì)中非常有用，尤其是在需要低色散的場(chǎng)合。

激光耐久性：對(duì)于準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件（157nm、193nm、248nm），CaF2展現(xiàn)出了出色的激光耐久性。

輻射耐受性：CaF2對(duì)高能顆粒和輻射具有合格的抵抗力。

尺寸：Hellma提供的CaF2晶體直徑可達(dá)420mm，甚至有些資料顯示直徑可達(dá)440mm。

應(yīng)用領(lǐng)域：CaF2晶體被廣泛應(yīng)用于多種領(lǐng)域，包括紅外光學(xué)、天文儀器、空間光學(xué)、顯微鏡光學(xué)、光譜學(xué)、紫外光學(xué)、激光窗口、準(zhǔn)分子激光光學(xué)以及微光刻光學(xué)。

物理化學(xué)性質(zhì)：CaF2晶體具有良好的機(jī)械強(qiáng)度和抗潮性，能在0.13至11.3微米波段范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)高透過(guò)率，最高達(dá)95%。在大氣下使用溫度可達(dá)600℃，真空干燥時(shí)可達(dá)800℃。

晶體結(jié)構(gòu)：CaF2晶體是典型的螢石型立方結(jié)構(gòu)，空間群為5hO-Fm3m，晶胞參數(shù)a=0.5462nm。這種結(jié)構(gòu)含有豐富的間隙位置，使得高價(jià)態(tài)的陽(yáng)離子容易摻入晶格。

德國(guó)豪瑪Hellma CaF2晶體材料

型號(hào)示例：

Hellma晶體材料CaF2

Hellma晶體材料BaF2

Hellma晶體材料Yb3+

Hellma晶體材料CeBr3

Hellma晶體材料LBC:Ce

Hellma晶體材料CaF2:Eu

Hellma晶體材料CVD Zinc Sulfide

Hellma晶體材料Cleartran

Hellma晶體材料CVD Zinc Selenide

德國(guó)豪瑪Hellma CaF2晶體材料應(yīng)用于光學(xué)領(lǐng)域

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