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這些關(guān)于真空鍍碳儀的基礎(chǔ)知識(shí)，以下有詳細(xì)說(shuō)明

閱讀：1725 發(fā)布時(shí)間：2021-4-22

　　真空鍍碳儀是目前較為先進(jìn)的對(duì)樣品進(jìn)行預(yù)處理的儀器。主要適用于掃描電子顯微（SEM）和X射線微觀分析等表征工作前的鍍碳處理。*的蒸發(fā)源反饋控制技術(shù)保證了20nm厚的桿狀蒸發(fā)源也能夠正常工作。同時(shí)，該產(chǎn)品結(jié)構(gòu)合理緊湊，易于操作，抽放氣周期較快。

　　本產(chǎn)品結(jié)構(gòu)緊湊，所占空間小。樣品室直徑150mm，可快速抽真空進(jìn)行鍍膜處理，處理周期約10分鐘。高真空條件下使用超純的碳棒為嚴(yán)格的高分辨掃描電鏡、透射電鏡、EBSD及探針?lè)治鎏峁└哔|(zhì)量的鍍膜處理。

　　主要功能：

　　該鍍碳儀主要用來(lái)在非導(dǎo)電材料表面蒸發(fā)或者濺射沉積納米導(dǎo)電薄膜，用來(lái)提高樣品的表面導(dǎo)電性能，同時(shí)由于厚度僅為幾個(gè)納米，可以很好保持樣品原始的表面形貌。

　　真空鍍碳儀的技術(shù)特點(diǎn)：

　　1、電流、電壓檢測(cè)器和先進(jìn)的反饋控制技術(shù)使得鍍碳過(guò)程穩(wěn)定、高效。

　　2、脈沖、連續(xù)模式隨意切換。

　　3、提供“手動(dòng)”和“自動(dòng)”兩種模式。

　　主要特性：

　　1、電壓控制的碳棒具有多次蒸發(fā)能力；

　　2、反饋控制可以得到準(zhǔn)確一致的鍍膜厚度；

　　3、可選擇操作方法優(yōu)化鍍膜過(guò)程；

　　4、繁忙條件下可進(jìn)行自動(dòng)蒸發(fā)控制；

　　5、低成本高分辨膜厚監(jiān)測(cè)儀保證可重復(fù)的鍍膜效果；

　　6、80L/s的分子渦輪泵可快速地使直徑150mm的樣品室達(dá)到鍍膜要求的真空；

　　7、可配備無(wú)油渦旋式真空泵選件。

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