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目錄:上海昊量光電設(shè)備有限公司>>光譜儀>>拉曼光譜儀>> 50萬RMB!高速大面積共聚焦拉曼成像系統(tǒng)

50萬RMB!高速大面積共聚焦拉曼成像系統(tǒng)
  • 50萬RMB!高速大面積共聚焦拉曼成像系統(tǒng)
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具體成交價以合同協(xié)議為準
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更新時間:2023-10-18 15:15:00瀏覽次數(shù):3707評價

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產(chǎn)地類別 進口 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)林牧漁
50萬RMB!高速大面積共聚焦拉曼成像系統(tǒng)采用透射式光路設(shè)計,提高了產(chǎn)品的靈敏度和穩(wěn)定性。*的振鏡掃描技術(shù)能夠在臺面固定不動的情況下實現(xiàn)快速二維成像掃描。

Nanobase50萬RMB!高速大面積共聚焦拉曼成像系統(tǒng)采用透射式光路設(shè)計,提高了產(chǎn)品的靈敏度和穩(wěn)定性。*的振鏡掃描技術(shù)能夠在臺面固定不動的情況下實現(xiàn)快速二維成像掃描。該技術(shù)在聯(lián)用光電流成像系統(tǒng)載臺時優(yōu)勢明顯,并且可擴展增加熒光壽命檢測系統(tǒng)。

XperRam C series是基礎(chǔ)款,采用一個532nm激光器激發(fā),集成了奧林巴斯顯微鏡,可以測量樣品的Raman/PL的光譜信號和mapping(Image)圖像。光譜信號強,掃描速度快,。

50萬RMB!高速大面積共聚焦拉曼成像系統(tǒng)


系統(tǒng)光路




拉曼成像mapping



                                     (a)     MoS2 sample microscope image                 (b)50x50µm size 0.3µm step Intensity  image

                                       (c)     30x30µm size 0.1µm step Intensity image    (d)30x30µm size 0.1µm step Frequency image




產(chǎn)品特點



  • 具有優(yōu)異的掃描分辨率和重復(fù)性

(激光掃描分辨率< 0.02 um & 重復(fù)性< 0.1 μm)

  • 體相全息光柵光譜儀(光透過率>90%,比反射式光柵高30%,信號傳輸效率更高)

  • 具有Raman/PL等多種測量模式,可擴展為光電流成像功能

  • 結(jié)構(gòu)緊湊,模塊化設(shè)計

  • 掃描速度快,掃描范圍大200µm x 200µm范圍內(nèi)高速成像 & 2D Mapping

應(yīng)用領(lǐng)域

石墨烯,二維材料,生物樣本,半導(dǎo)體工業(yè),碳納米管,碳材料,太陽能電池,儲能材料,納米纖維分布,探測器光電性能檢測,晶圓體分析,制藥分析,納米材料檢測,生物細胞成像,微塑料檢測,金剛石微粉檢測。


基本參數(shù)


激光器

  • 一個CW DPSS激光器

  • 激光器波長:405nm/532nm/633nm(532nm通用型號)

  • 輸出:大100mW

顯微鏡

  • 奧林巴斯顯微鏡:BX4X, BX5X, BX61 (正置)

  • 反射式/透射式LED照明

  • 物鏡:標配(40X, NA=0.75)   選配:多種倍率和超長焦距物鏡

  • 透過率:>60% (360nm~1000nm)

掃描模塊

  • 掃描面積:200um×200um   (大)

  • 掃描精度: 小于0.02 um(分辨率), <0.1um(重復(fù)性)

  • 小步進:0.1um

  • 掃描速度:>20 譜/秒

探測器

  • 科學級TEC制冷ccd

  • 分辨率:1932×1452   Pixels

光譜范圍

  • 大 203750px-1

  • 低:250px-1(需額外加低波數(shù)模塊,通用型號1250px-1

光柵選擇

  • 300/600/1200/1800/2400  lpmm (可選)

其它附加選項


  • 偏振控制

  • 功率控制ND濾波片


使用Nanobase XperRam Compact系列拉曼成像光譜儀發(fā)表的部分文獻:


1. Ising-Type Magnetic Ordering in Atomically Thin FePS3gnetic Ordering in Atomically Thin FePS3
影響因子: 12.08 期刊名稱: NANO Letters2016 作者單位: 首爾國立大學物理與天文學系, 通訊作者: Hyeonsik Cheong
2. Electrically conductive cement mortar: Incorporating rice husk-derived high-surface-area graphene
期刊名稱: Construction and Building Materials2016 作者單位: 全南國立大學高分子科學與工程學院, 通訊作者: Ji Hoon Kim
3. Wafer-Scale van der Waals Heterostructures with Ultraclean Interfaces via the Aid of Viscoelastic Polymer
影響因子: 8.097 期刊名稱: ACS Applied Materials and Interfaces2018 作者單位: 成均館大學, 通訊作者: Young Hee Lee


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