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簡單介紹下成像濾光片鍍膜前的清洗方法
閱讀：1370 發(fā)布時間：2018-9-11
簡單介紹下成像濾光片鍍膜前的清洗方法
成像濾光片是一種表現(xiàn)顏色的光學濾光片，它可以選擇欲通過的小范圍波段光波，而反射掉其他不希望通過的波段。成像濾光片通常安裝在光源的前方，使人眼可以接收到飽和的某個顏色光線。成像濾光片是什么？簡單來說成像濾光片是一種屏蔽可見光，僅透紅外光的光學級材料。
成像濾光片從材料上劃分，有光學玻璃鍍膜的，也有有色玻璃制成的，也有塑料成像濾光片。成像濾光片是塑料或玻璃片再加入特種染料做成的。隨著科技的發(fā)展，半導體器件的生產(chǎn)對清潔度的要求越來越高。也不斷有復雜的新洗凈系統(tǒng)和設(shè)備投入使用。在光學儀器、精密機械以及電子機械領(lǐng)域也越來越多地需要精密工業(yè)清洗。無論是半導體薄膜的生長還是基于半導體薄膜的器件制備，襯底的清洗和處理是*的一個環(huán)節(jié)。
在清洗行業(yè)中，根據(jù)清洗時使用的清洗媒體（清洗劑）種類，通常把清洗工藝分為兩大類，即濕式清洗和干式清洗。對真空鍍膜行業(yè)來說，根據(jù)鍍膜基底表面所去除物的種類，對鍍膜前基底的清洗方法一般分為物理清洗和化學清洗，物理清洗即去除基底表面物理附著物，如粉塵顆粒;化學清洗是去除基底表面化學附著物，如油跡。而不同的基底在真空鍍膜前的清洗方法也各有差異，成像濾光片鍍膜前清洗主要包括如下幾種。
1、擦拭清洗
擦拭清洗方法是兼有機械摩擦和化學作用的雙重效果，使除污效果更為有效。成像濾光片等光學元件在轉(zhuǎn)入鍍膜加工工序前，其基底都經(jīng)過研磨拋光，達到一定的光潔要求，光學元件表面殘留有各類油污，存在粘附性強的附著物，同時還殘留有部分研磨膏、拋光砂等顆粒物。為達到良好的清洗效果，滿足成像濾光片的鍍膜需求，成像濾光片基底應*行擦拭清洗，以清除基底表面油污及研磨膏、拋光砂等附著物。
2、超聲波清洗
超聲波清洗的主要作用機理是超聲空化作用、超聲空化二階效應產(chǎn)生的微聲流的洗刷作用，以及超聲空化在固體和液體界面所產(chǎn)生的高速微射流的沖擊作用，促進洗液的化學物理反應效果，從而除去污染物的一種有效的清洗方法，是一種高速、高質(zhì)量、易實現(xiàn)自動化的清洗技術(shù)。
3、離子束清洗
成像濾光片鍍膜前經(jīng)過一系列的清洗過程之后，在基片放入真空室的過程中以及在真空室抽取真空的過程中，裝入鍍膜設(shè)備真空室以及進行蒸鍍前，基片均有可能被二次污染，從而影響成像濾光片蒸鍍效果和薄膜特性，通常采用離子束清洗技術(shù)，對基片進行的后一道處理，以消除二次污染，保證基片在鍍膜前的真正清潔。離子束清洗技術(shù)的清潔機理是:吸附或黏附在成像濾光片上的污物在高能離子束的轟擊下脫離基片;或通過高熱能的氧離子氧化污物分子，使它易于被離子碰撞而脫離基片。