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| 參考價(jià) | 面議 |
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更新時(shí)間：2025-06-06 16:27:01瀏覽次數(shù)：175評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類 | 場(chǎng)發(fā)射 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子/電池,電氣 |
| 加速電壓 | 200 V~ 30 kV(35kV可選) | 放大倍率 | 1 ~ 1,000,000x |
| 電子槍類型 | 肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍 |
國(guó)儀量子SEM4000Pro場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡是一款分析型熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡，配備了高亮度、長(zhǎng)壽命的肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍。三級(jí)磁透鏡設(shè)計(jì)，在EDS、EBSD、WDS等應(yīng)用上具有明顯優(yōu)勢(shì)。標(biāo)配低真空模式，以及高性能的低真空二次電子探測(cè)器和插入式背散射電子探測(cè)器，可觀察導(dǎo)電性弱或不導(dǎo)電樣品。
國(guó)儀量子SEM4000Pro場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
01配備高亮度、長(zhǎng)壽命的肖特基熱場(chǎng)發(fā)射電子槍
02分辨率高，30 kV 下優(yōu)于 0.9 nm 的極限分辨率
03三級(jí)磁透鏡設(shè)計(jì)，束流可調(diào)范圍大，最大支持 200 nA 的分析束流
04無漏磁物鏡設(shè)計(jì)，可直接觀察磁性樣品
05標(biāo)配低真空模式，以及高性能的低真空二次電子探測(cè)器和插入式背散射電子探測(cè)器
06標(biāo)配的光學(xué)導(dǎo)航模式，中文操作軟件，讓分析工作更輕松
| 關(guān)鍵參數(shù) | 分辨率 | 0.9 nm @ 30 kV，SE |
| 2.5 nm @ 30 kV，BSE，30 Pa | ||
| 1.5 nm @ 30 kV, SE, 30 Pa | ||
| 加速電壓 | 200 V ~ 30 kV（35kV可選） | |
| 放大倍率 | 1 ~ 1,000,000 x | |
| 電子槍類型 | 肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍 | |
| 樣品室 | 低真空模式 | 最大180 Pa |
| 攝像頭 | 雙攝像頭 | |
| （光學(xué)導(dǎo)航+樣品倉(cāng)內(nèi)監(jiān)控） | ||
| 行程 | X=110 mm，Y=110 mm，Z=65 mm | |
| T: -10°~+70°，R: 360° | ||
| 探測(cè)器和擴(kuò)展 | 標(biāo)配 | 倉(cāng)室內(nèi)電子探測(cè)器（ETD） |
| 低真空二次電子探測(cè)器（LVD） | ||
| 插入式背散射電子探測(cè)器（BSED 五分割，可選配） | ||
| 選配 | 能譜儀（EDS） | |
| 背散射衍射（EBSD） | ||
| 插入式掃描透射探測(cè)器（STEM） | ||
| 樣品交換倉(cāng)（4 寸 /8 寸） | ||
| 軌跡球&旋鈕板 | ||
| 軟件 | 語言 | 中文SEM軟件 |
| 操作系統(tǒng) | Windows | |
| 導(dǎo)航 | 光學(xué)導(dǎo)航、手勢(shì)快捷導(dǎo)航、軌跡球（選配） | |
| 自動(dòng)功能 | 自動(dòng)亮度對(duì)比度、自動(dòng)聚焦、自動(dòng)像散 |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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